掃瞄穿隧式顯微鏡的原理-精密光學儀器常識
原子力顯微技術
原子力顯微鏡
自從 1982 年掃瞄穿隧式電子顯微鏡(STM)發(fā)明之后,開啟了可以直接探索原子尺度的表面結構,
方便我們取得樣品表面的影像,
此后各式不同功用的掃瞄探針顯微鏡(SPM)也相繼不斷地被發(fā)展出來,
而以 1986 年所發(fā)明的原子力顯微鏡(AFM)用途最廣。
由于掃瞄穿隧式顯微鏡是使用量子穿隧效應做為回饋控制的訊號,樣品需為導體或半導
體,且系統要求需在高真空環(huán)境下進行,才能使影像的解析度更好,
但也降低了其實用性與便利性。
然而原子力顯微鏡,它可在大氣環(huán)境及液體下操作,受測樣品不須具有導電性,所以研究及應用的領域范
圍就更加寬廣,
加上它的解析度也可達到奈米級,對微區(qū)結構的表面幾何形貌、粗糙度等特性,提供了微小量技術的主要利器。
尤其對于傳統掃瞄電子顯微術無法清楚解析之樣品,更是最佳的檢測工具
AFM 儀器系統架構,分為三個主要部分:掃瞄控制主體系統、電子控制系統、及隔離防震系統
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