亚洲一级αv毛片_99热久久这里只有精品bb4_制服丝袜有码无码中文_男主占有欲强的糙汉文_又湿又黄又高潮的黄羞羞视频_狠狠色丁香九九婷婷综合五月_给我看免费播放的视频第二集下载_亚洲天堂视频图_肉蒲团从国内封禁到日本成经典_国产精品一区二区在线邻家

平滑光學元件表面粗糙度值測量顯微鏡簡介 　　一般而言，經常運用于量測物質表面粗糙度值方法，包括掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscopy, SEM)、 原子力顯微鏡(atomic force microscope, AFM)、穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscopy, TEM) 與白光干涉儀(white light interferometry, WLI)[17]。其中，又以原子力顯微鏡最常運用于量測晶圓 (semiconductor wafers)、加工件、薄膜或平滑光學元件表面(smooth optical surface)之表面粗糙度值。 然而，運用原子力顯微鏡來量測物質之表面粗糙度值主要的缺點包括：量測速度慢、量測前之前置作業(yè)時間長、 無法進行大面積試片檢測、無法于制程上進行即時檢測、粗糙度量測精度亦受到探針半徑影響以及量測設備環(huán)境 要求嚴謹。此外，雖然運用一些量測方法能夠得到可靠的結果，但是缺點為設備昂貴。